半导体激光器的鼓励办法通常多选用电流注入方式，当注入电流大于阈值电流Ith时，辐射功率随电流的添加而迅速地增大。因此，能够经过改变半导体激光器的注入电流来调整其输出的光功率。而对半导体激光器进行操控，通常选用自动操控的办法，它包含恒电流操控（ACC），恒功率操控（APC），电压安稳操控（AVC）。
     在APC工作方式下，选用光电探测器（PD）接纳一小部分激光功率并转化为监测电流，改监测电流经过测电流经过电流/电压转换后，经过APC反应网络与设定值比较，从而构成闭环负反应操控。当激光输出功率受温度等因素影响发生变化时，该负反应可操控光功率使其安稳不变。
     AVC是特定场合下简单而又游水的形式，当要求LD的驱动电压安稳时，能够选用此形式。
     在ACC工作方式中，经过电流采样反应为电流驱动单元提供有源操控，从而是电流漂流最小且使LD输出安稳性最大，与温度操控配合使用效果更好。
     现如今常用的半导体激光设备工作用恒流源，主要是应用了场效应管的导通特性以及晶体管的对称连接镜像恒流原理来实现。要得到安稳的输出，必须使注入电流安稳，这就要选用恒流源。